光催化氧化设备利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射碳氢有机物分子键，裂解具有刺激性气味物质，在半导体催化剂的作用下，使呈游离状态的污染物原子与臭氧氧化聚合成小分子无害或低害物质，如CO2、H2O等。利用高能UV光束裂解有机气体分子键，进行催化氧化反应，达到处理有机异味的目的。光催化氧化设备利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射碳氢有机物分子键，裂解具有刺激性气味物质，在半导体催化剂的作用下，使呈游离状态的污染物原子与臭氧氧化聚合成小分子无害或低害物质，如CO2、H2O等。利用高能UV光束裂解有机气体分子键，进行催化氧化反应，达到处理有机异味的目的。

光催化氧化尾气净化处理利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射恶臭气体物质分子键，裂解刺激性臭味气体物质如：氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC类，苯、甲苯、二甲苯的分子键，使呈游离状态的污染物原子与臭氧氧化聚合成小分子无害或低害物质，如CO2、H2O等。利用高能UV光束裂解恶臭气体中细菌的分子键，破坏细菌的核酸(DNA)，再通过臭氧进行氧化反应，彻底达到脱臭及杀灭细菌的目的。

主要特点：

1、除臭光催化处理效率高，能高效去挥发性有机污染物、无机物、硫化氢、氨气、硫醇类等主要污染物，以及各种恶臭味，脱臭效率可达99.9%以上，完全能达标排放；

2、光催化氧化设备运行只需要设置相应的排风管道和排风动力，使气体通过本设备进行脱臭分解净化，无需添加任何物质参与化学反应，无任何机械动作，无噪音，无需专人管理和日常维护，只需作定期检查，本设备能耗低，设备风阻低,可节约大量排风动力能耗维护费用低；

3、光催化氧化设备常压下经行，故安全，无隐患；

4、光催化氧化设备对工况适应能力强可适应高浓度，大气量，不同恶臭气体物质的脱臭净化处理，可每天24小时连续工作，运行稳定可靠；

5、光催化氧化设备占地面积小，自重轻：适合于布置紧凑、场地狭小等特殊条件。